Roma - Mercoledi' 23 maggio alle ore 11.00 presso il Complesso di San Michele a Ripa di Roma, il Ministero per i Beni e le Attivita' culturali, il Ministero per gli Affari Esteri - Istituto Italiano di Cultura (IIC), Sezione di Shanghai e l'Istituto Garuzzo per le Arti Visive, presenteranno la prima edizione del Premio Shanghai - Residenze artistiche per giovani artisti italiani e cinesi emergenti.

Il Premio Shanghai è un concorso rivolto a giovani italiani e cinesi tra i 18 e i 35 anni di età che operano nell’ambito delle arti figurative. Il Premio sarà attribuito attraverso una selezione concorsuale a tre giovani artisti italiani (I Fase del premio) e a tre giovani artisti cinesi (II Fase del premio), nell’intento di promuovere e favorire la ricerca artistica e culturale tra i due Paesi, individuando le esperienze più promettenti.

Il Premio Shanghai si propone di offrire a giovani artisti italiani e cinesi reali opportunità di crescita artistica e professionale offrendo loro due mesi di residenza artistica rispettivamente in Cina ed in Italia, dove avranno modo di conoscere ed integrarsi con la cultura locale, di essere seguiti da un tutor e di realizzare ed esporre il loro lavoro.

I materiali, inviati alla Segreteria organizzativa entro il 30 giugno 2012, saranno giudicati da una Commissione Artistica composta da tre esperti designati da ciascuna Istituzione.

Il bando del Premio Shanghai è fin d’ora consultabile all’indirizzo www.premioshanghai.webnode.it e sui siti web delle Istituzioni promotrici (www.beniculturali.it, www.pabaac.beniculturali.it, www.iicshanghai.esteri.it, www.igav-art.org).
I partecipanti possono richiedere ulteriori informazioni alla Segreteria organizzativa (premioshanghai@libero.it, 011.19781500) e all’Istituto Italiano di Cultura – Sezione di Shanghai (iicshanghai@esteri.it, tel. 0086 21 54075588 int. 157).